Campus Gama oferta curso de Língua estrangeira aplicada ao trabalho – Espanhol

O Campus Gama do Instituto Federal de Brasília abre matrículas para o curso de Língua estrangeira aplicada ao trabalho – Espanhol, para ingresso no 2º semestre de 2018. Estão sendo ofertadas 20 vagas na modalidade de Formação Inicial e Continuada (FIC) Presencial/a Distância. 

As matriculas serão feitas no Registro Acadêmico Campus Gama (Lote 01, DF 480, Setor de Múltiplas Atividades, Gama/DF – CEP 72.429-005), nos dias 13, 14, 17 ou 18 de setembro de 2018, das 9h às 12h ou das 13h às 17h. As vagas serão preenchidas por ordem de chegada dos candidatos. 

Para se matricular é preciso ter no mínimo18 anos e o Ensino Médio completo, além de apresentar original e cópia dos seguintes documentos:

• documento de identificação válido e com foto (Carteira de identidade, Carteiras de Registro Profissional, Carteira de Trabalho ou Passaporte, Carteira Nacional de Habilitação);
• histórico escolar de conclusão ou Certificado/Diploma de conclusão de Ensino Médio/Superior;
• duas fotos 3x4 idênticas e recentes;
• CPF – Cadastro de Pessoa Física, se não estiver na carteira de identidade; e
• comprovante de residência com CEP ou declaração de próprio punho.

A matrícula poderá ser feita por terceiros, mediante apresentação de procuração específica assinada pelo candidato, sem necessidade de reconhecimento de firma, acompanhada do documento de identidade do procurador (original e cópia), bem como dos documentos do candidato, especificados no edital. 

O curso

O curso de Língua estrangeira aplicada ao trabalho – Espanhol é de formação rápida, com carga horária de 100h. A oferta será na modalidade presencial nas quarta-feiras, das 08h às 12h30 e das 13h30 às 15h30, e nas quinta-feiras das 09h30 às 12h30. Entretanto, poderão ocorrer atividades também a distância (EaD). 

Campus Gama: Lote 01, DF 480, Setor de Múltiplas Atividades, Gama/DF – CEP 72.429-005

Telefone: (61) 2103-2250

Para saber mais detalhes sobre a seleção, clique aqui e acesse o edital.